G-43B4型高精密單面光刻機產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次光刻的產品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，此設備光的均勻性非常好（在Φ100范圍內≤±4%），所以大大提高了設備的光刻質量。

主要構成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點

1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
2.結構穩定
本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
4.設備運行穩定、可靠
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設功能
除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要技術指標

1．操作方式：手動；

2．曝光模式：接觸式曝光；

3．曝光面積：Φ4"；

4．紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6．曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。